德州仪器（TI）在2025年9月30日推出其最新工业数字微镜器件DLP991UUV，专为进步前辈封装及无掩膜光刻（LDI）技能打造。该装备具有4096×2176分辩率，约890万个微镜摆列，微镜间距仅为5.4微米，微镜阵列对于角线尺寸为0.99英寸，撑持343至410纳米的紫外光波段。
DLP991UUV经由过程调制入射光的幅度、标的目的及相位，实现亚微米级的图案化精度，特别合用在对于高精度要求且需降低成本的进步前辈封装范畴。其无掩膜设计可按照质料外貌的及时状况矫捷调解图案，显著晋升工艺调优速率并消弭掩膜改换带来的时间与成本承担。
共同DLPC964节制器，DLP991UUV撑持超高速流式数据传输，满意3D打印及半导体系体例造等范畴对于年夜尺寸构件及超邃密分辩率的需求。此外，DLP991UUV还有广泛运用在高光谱成像、工业检测及呆板视觉，助力鞭策各行业的智能制造进级。
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